常见问题

MEMS（Microelectromechanical Systems，微机电系统）工艺是一种在纳米至毫米尺度范围内制造微结构的加工技术。它起源于半导体和微电子工艺，结合了光刻、外延、薄膜淀积、氧化、扩散、注入、溅射、蒸镀、刻蚀、划片和封装等多种现代加工技术来制造复杂三维形体的微加工技术，本质是将机械系统微型化。MEMS工艺不仅广泛应用于微器件的制造，还推动了微型化、集成化和智能化技术的发展，为众多领域带来了革命性的变化。

从工作方式上来看，麦锴的MEMS微镜有准静态和谐振态两类。

准静态工作模式下，镜面的控制方式相对更自由，可以实现一定频率内任意角度下任意时间的静止，配合不同波段的激光，可应用于激光通信、矢量扫描成像、空间光调制等。

谐振态工作模式下，镜面可以获得更大的偏转角度范围，和快速的扫描频率（数值约为MEMS振镜的谐振频率）。振镜在谐振态工作模式下调整一些控制信号参数，可以得到李萨如图形。常用于大角度快速激光扫描的投影、成像等领域。

微镜的主要性能指标为：镜面直径、谐振频率、机械转角。

与市面上的静电和电磁MEMS微镜相比，麦锴的压电MEMS微镜是基于新型压电薄膜技术产生的高频大角度振动器件，产品具有角度大、高可靠，不易疲劳，不易受电磁干扰、稳定性强等高可靠特性。

快速反射镜（FSM：Fast steering Mirror ），主要功能是通过精确控制反射镜面的方向，来调整光束的方向。快反镜具有惯性小、易于安装和控制、响应速度快以及定位精度高的优点，广泛应用于天文望远镜、空间激光通讯、精瞄准等光学系统中。

麦锴的快反镜从直径上分，有5mm，8mm，10mm，15mm几种。

MEMS的快反镜体积小，重量轻，功耗低，线性度高，没有迟滞和蠕变效应。

面型的主要衡量指标通常用PV值和RMS值来表示。快反镜的面型在远距离激光通信领域要求比较高，一般要求RMS值为通信波长的数十分之一。

目前MEMS的微镜已经进行了200余亿次的全量程寿命试验，没有明显衰减。

市面上目前的快反镜多使用压电陶瓷和音圈电机的技术路线。与这些传统快反镜产品相比，麦锴压电MEMS快反镜的体积为传统快反镜的1/8，重量为1/18，功耗为1/12，对于在激光通信卫星上的应用，可以显著减少卫星发射成本和运行功耗，具有显著优势。

快反镜产品是压电致动的产品，特点为低电流大电压。需要配备升压电路将电源提升到120V左右，同时使用高压放大电路进行驱动，推荐使用的高压运放有：OPA462，ADHV4702等。由于电源类型（正负电源/单端电源）的不同，推荐使用三种不同的连接结构。

注：驱动方式三仅能够提供VDD/2的电压动态范围。

请在申请样品时特别说明可提供的正电压范围，麦错将为您调整线序以使得快反镜工作在正电压量程。